bob综合登录官方（中国）有限公司官网东威科技获79家机构调研：目前市场上的设备非全套进口磁控溅射设备很贵不低于4000万（附调研问答）

　　bob官方东威科技12月8日发布投资者关系活动记录表，公司于2022年12月7日接受79家机构单位调研，机构类型为保险公司、其他、基金公司、海外机构、证券公司、阳光私募机构。

　　答：公司在收入及利润目标上如年初规划一样，按预期增长，但是在具体的收入产品布局上有所差异。如新能源设备今年年初对这块市场预计十几台的量，目前在手订单已经达到20多亿元，大大高于年初预期。

　　问：2.水电镀设备前三季度交了多少台？四季度能交付多少台？客户下单到运输、安装、调试结束时可批量生产的时间周期大概要多久？

　　答：前三季度已交付有十余台，销售收入约在7000万左右。四季度预计会出货20余台。从客户下单到运输、安装、调试结束时可批量化生产大概在3至6个月左右，具体时间没法明确，因为还要考虑客户的一些影响因素，如：（1）客户前道设备的配置；（2）客户场地因素；（3）疫情管控情况。

　　答：明年出货量预计不低于100台，否则难以完成目前的在手订单。预计能确认收入的不低于50台。

　　目前市场上的设备非全套，进口磁控溅射设备很贵，不低于4000万。全套使用我们设备（真空磁控设备+水电镀设备），总成本可以到2块多。设备价格大大降低，且技术配套更完整。

　　答：我们的设备属于定制化产品，每个客户的需求不同对应我们的产品价格不同，批量按批量价格，零售按零售价格。目前公司设备的价格处于900至1500万元/台之间。如果成套采购（磁控设备+新能源镀膜设备），价格上将会更有优势。

　　目前电池厂商都在接触，包括动力电池、储能电池及消费电池。具体他们什么时候下单，还是要取决于对方的生产计划安排。当合同金额高于1.5亿的，我们会及时披露。

　　问：7.我们下游客户水电镀镀膜会涉及化工环保，客户进一步扩张产能是否会受限？

　　答：不会。参考VCP等产线，也有环保污染，但是多年来一直是增长趋势。相对传统设备，我们的设备有改进，且一直强调环保节能，可以有效减少客户环境污染，综合考虑不会限制发展。

　　问：8.真空磁控设备技术壁垒较高，但还有几家可以量产的公司。为何水电镀仅有东威是唯一量产公司？

　　答：公司在2017年FPC软片卷对卷厚度已经做到20μm，VCP设备的市占率也一直在50%以上，技术处于行业领先。2017年电池厂商合作研发，2019年设备研发成功，主要是因为有VCP卷对卷的技术基础。从20um到6um对于我们而言技术稍微攻克就行。2020年在2019年设备上更新，市场推广很快。

　　问：9.光伏电镀铜设备有接触下游客户的进展吗？公司设备速率能达到多少？明年能量产吗？

　　答：目前市面上还未看到每小时千片级的光伏电镀铜设备，因为光伏工艺的复杂，使得当前的镀铜成本比传统的银浆印刷成本要高，公司也正在致力于降低成本。现有设备的速率大概200-400片/小时，第二代设备每小时出片率达千片级，预计在7000-8000片。公司目前正在开发大量产的二代设备，计划在2023年上半年传出好消息。因为银的成本及储存量限制，铜代替银的趋势不会变，市场化还要看设备技术的成熟度及市场的推广度。

　　答：光伏铜电镀采用的是垂直法，新能源电镀采用的是水平法。公司经过多方对比，试验下来光伏电镀还是采用垂直法更好。

　　问：11.传统PCB的市占率达到多少？水平与VCP设备合二为一的设备价格大概多少？

　　答：PCB领域的VCP设备占市场50%以上。公司研制的水平与VCP设备合二为一设备可以完全替代进口，价格大概在2000万左右。

　　答：通用五金设备包括龙门和滚镀设备。就今年业绩来看，龙门的订单同比翻倍。五金连续电镀是滚镀设备的更新设备，到年底订单也会超亿元。目前通用五金领域的设备市场能达到200亿元，我们不想放弃，且十分看好这个市场。未来3-5年，我们计划做到市占率的5%-10%。

　　答：公司12靶的真空磁控设备已研制成功，首台设备已于近期销售，定金已收，价格在1000万元出头。关于明年的出货，公司预计不低于50台。

　　答：一步法二步法没有明确区分，只是市场的叫法。前后道结合即为一步法，分开就是两步法。镀膜有三种方法实现，水镀+水镀，磁控+磁控，磁控+水镀。三种方式都是前后道都可以实现镀膜。核心还是要做到成本最低，抗拉强度及结合力也很关键;

　　昆山东威科技股份有限公司的主营业务为高端精密电镀设备及其配套设备的研发、设计、生产及销售。公司的主要产品为刚性板VCP、柔性板片对片VCP、柔性板卷对卷VCP、水平式除胶化铜设备、龙门式电镀设备、连续滚镀设备。凭借公司自主研发的垂直连续电镀等技术，公司VCP设备在电镀均匀性、贯孔率（TP）等关键指标上均达到了业内领先水平。其中柔性板片对片VCP在板厚36μm-300μm时电镀均匀性能够达到10μm±1μm，达到了国际同类设备的技术水平。

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